পৃষ্ঠা_ব্যানার

CVD / PVD প্রসেস চেম্বারের জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধ অ্যালুমিনা সিরামিক রিং

CVD / PVD প্রসেস চেম্বারের জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধ অ্যালুমিনা সিরামিক রিং

সংক্ষিপ্ত বিবরণ:

সেন্ট সেরার সিরামিক রিংটি বিশেষভাবে সিভিডি (কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন) এবং পিভিডি (ফিজিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন) প্রসেস চেম্বারে ব্যবহারের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। ৯৯.৮% উচ্চ-বিশুদ্ধ অ্যালুমিনা (Al₂O₃) থেকে তৈরি এই রিংটি চেম্বার লাইনার, ফোকাস রিং বা প্রসেস কিট কম্পোনেন্ট হিসেবে কাজ করে প্লাজমাকে আবদ্ধ রাখতে এবং চেম্বারের দেয়ালকে ক্ষয় থেকে রক্ষা করতে। এই উপাদানটি চমৎকার প্লাজমা প্রতিরোধ ক্ষমতা, উচ্চ ডাইইলেকট্রিক স্ট্রেংথ (১৫×১০⁶ V/m) এবং ১৬০০°C পর্যন্ত তাপীয় স্থিতিশীলতা প্রদান করে, যা ক্ষতিকর ফ্লোরিন-ভিত্তিক প্লাজমা পরিবেশে দীর্ঘ পরিষেবা জীবন নিশ্চিত করে। এর সুনির্দিষ্ট মাত্রিক সহনশীলতা (ID/OD-তে ±০.০৫ মিমি) এবং সমতলতা (≤১০ μm) ওয়েফারের প্রান্তের অবস্থানকে সামঞ্জস্যপূর্ণ রাখে, যা ডিপোজিশনের সমরূপতা উন্নত করে এবং কণার সৃষ্টি কমায়।


পণ্যের বিবরণ

পণ্যের ট্যাগ

সেন্ট সেরার সিরামিক রিংটি বিশেষভাবে সিভিডি (কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন) এবং পিভিডি (ফিজিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন) প্রসেস চেম্বারে ব্যবহারের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। ৯৯.৮% উচ্চ-বিশুদ্ধ অ্যালুমিনা (Al₂O₃) থেকে তৈরি এই রিংটি চেম্বার লাইনার, ফোকাস রিং বা প্রসেস কিট কম্পোনেন্ট হিসেবে কাজ করে প্লাজমাকে আবদ্ধ রাখতে এবং চেম্বারের দেয়ালকে ক্ষয় থেকে রক্ষা করতে। এই উপাদানটি চমৎকার প্লাজমা প্রতিরোধ ক্ষমতা, উচ্চ ডাইইলেকট্রিক স্ট্রেংথ (১৫×১০⁶ V/m) এবং ১৬০০°C পর্যন্ত তাপীয় স্থিতিশীলতা প্রদান করে, যা ক্ষতিকর ফ্লোরিন-ভিত্তিক প্লাজমা পরিবেশে দীর্ঘ পরিষেবা জীবন নিশ্চিত করে। এর সুনির্দিষ্ট মাত্রিক সহনশীলতা (ID/OD-তে ±০.০৫ মিমি) এবং সমতলতা (≤১০ μm) ওয়েফারের প্রান্তের অবস্থানকে সামঞ্জস্যপূর্ণ রাখে, যা ডিপোজিশনের সমরূপতা উন্নত করে এবং কণার সৃষ্টি কমায়।

 

স্পেসিফিকেশন (৯৯.৮% Al₂O₃ এর উপর ভিত্তি করে):

সম্পত্তি মূল্য
উপাদান ৯৯.৮% অ্যালুমিনা (আইভরি)
ঘনত্ব ৩.৯৩ গ্রাম/সেমি³
জল শোষণ 0%
নমনীয় শক্তি ৩৬১ মেগাপ্যাসকেল
ফ্র্যাকচার টাফনেস ৩–৪ MPa·m¹/²
ভিকার্স কঠোরতা ১৬ জিপিএ
ইয়ং-এর মডুলাস ৩৮০ জিপিএ
তাপ পরিবাহিতা ৩২ ওয়াট/মিটার·কেলভিন
তাপীয় প্রসারণ (২৫–১০০০°সে) ৭.২×১০⁻⁶/℃
ডাইইলেকট্রিক শক্তি ১৫×১০⁶ V/m
নির্দিষ্ট প্রতিরোধ >১০¹⁴ ওহম·সেমি
সর্বোচ্চ অপারেটিং তাপমাত্রা ১৬০০°সে

 

প্রয়োগসমূহ:

  • সিভিডি চেম্বার ফোকাস রিং এবং এজ রিং
  • পিভিডি চেম্বার শিল্ড রিং এবং ক্ল্যাম্প রিং
  • চেম্বার লাইনার এবং কভার রিং খোদাই করুন
  • ডাইইলেকট্রিক এচ সিস্টেমে প্লাজমা আবদ্ধকরণ রিং

 

উৎপাদন প্রক্রিয়া:

আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং → গ্রিন মেশিনিং → ১৬০০°C তাপমাত্রায় সিন্টারিং → সিএনসি আইডি/ওডি গ্রাইন্ডিং → সারফেস ল্যাপিং → আলট্রাসনিক ক্লিনিং → ১০০% সিএমএম পরিদর্শন। অত্যন্ত মসৃণ পৃষ্ঠতল (Ra ≤০.৪ μm) কণার আসঞ্জন কমিয়ে দেয়।

 

গুণমান নিয়ন্ত্রণ:

  • · ১০০% মাত্রিক যাচাই (অভ্যন্তরীণ ব্যাস, বাহ্যিক ব্যাস, পুরুত্ব, সমতলতা)
  • · পৃষ্ঠের ক্ষুদ্র ফাটলের জন্য ডাই পেনিট্র্যান্ট পরিদর্শন
  • · ASTM D149 অনুযায়ী ডাইইলেকট্রিক স্ট্রেংথ পরীক্ষা
  • ২০× মাইক্রোস্কোপের নিচে কোনো দৃশ্যমান বিবর্ণতা বা ছিদ্রতা নেই।

 

ধাতু বা কোয়ার্টজের আংটির তুলনায় সুবিধাসমূহ:

  • ফ্লোরিন প্লাজমায় অ্যালুমিনিয়াম রিংয়ের তুলনায় ৫-১০ গুণ বেশি দীর্ঘস্থায়ী
  • পাতলা ফিল্মে কোনো ধাতব দূষণ নেই
  • কোয়ার্টজের তুলনায় উচ্চতর প্লাজমা প্রতিরোধ ক্ষমতা (কোন ক্ষয় গর্ত নেই)
  • দীর্ঘ ব্যবহারের পরেও >10¹⁴ Ω·cm বৈদ্যুতিক নিরোধক বজায় রাখে

 

বিকল্প উপাদান — সিলিকন নাইট্রাইড (Si)N):

যেসব অ্যাপ্লিকেশনে আরও উচ্চ ফ্র্যাকচার টাফনেস (৬.২ MPa·m¹/²) এবং উন্নততর থার্মাল শক রেজিস্ট্যান্স (প্রসারণ সহগ ৩.২×১০⁻⁶/℃) প্রয়োজন, সেগুলোর জন্য Si₃N₄ রিং পাওয়া যায়। তবে, বেশিরভাগ CVD/PVD অ্যাপ্লিকেশনের জন্য অ্যালুমিনা অধিক সাশ্রয়ী। অর্ডার করার সময় অনুগ্রহ করে আপনার পছন্দের উপাদান উল্লেখ করুন।

 

কাস্টমাইজেশন:

  • · মাউন্ট করার জন্য থ্রু-হোল, স্টেপড প্রোফাইল, বা কাউন্টারবোর
  • · উন্নত প্লাজমা প্রতিরোধের জন্য Y₂O₃-প্রলিপ্ত পৃষ্ঠতল (ঐচ্ছিক)
  • পার্ট নম্বর / লট কোডের লেজার খোদাই

 

দ্রষ্টব্য:উপরোক্ত তথ্য সরবরাহকৃত Al₂O₃ বৈশিষ্ট্য সারণী কঠোরভাবে অনুসরণ করে। Si₃N₄ বলয়গুলির জন্য, প্রদত্ত পৃথক Si₃N₄ ডেটাশিটটি দেখুন।


  • পূর্ববর্তী:
  • পরবর্তী: